新毅东(北京)科技有限公司张琪获国家专利权
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龙图腾网获悉新毅东(北京)科技有限公司申请的专利具有掩模版清理功能的光刻机获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224109774U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521165451.0，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型具有掩模版清理功能的光刻机是由张琪;符友银设计研发完成，并于2025-06-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有掩模版清理功能的光刻机在说明书摘要公布了：本实用新型属于半导体制造技术领域，公开了一种具有掩模版清理功能的光刻机。该具有掩模版清理功能的光刻机包括通讯连接的在线检测系统和清理系统。清理系统安装于在线检测系统的一侧或安装于在线检测系统内部，在线检测系统用于检测掩模版的表面是否存在异物颗粒，清理系统用于对掩模版的表面进行吹淋清洁处理，清理系统包括风淋件和抽气件，风淋件和抽气件均安装于在线检测系统的掩模版入口处，风淋件的风淋口位于掩模版的上方且与掩模版的表面相对设置，抽气件的吸取口位于掩模版的下方且与风淋口相对设置，抽气件用于收集风淋口吹扫的异物颗粒。具有掩模版清理功能的光刻机能够有效提高清洁精准度，优化异物颗粒的清洁效果。
本实用新型具有掩模版清理功能的光刻机在权利要求书中公布了：1.具有掩模版清理功能的光刻机，其特征在于，包括：通讯连接的在线检测系统100和清理系统，所述清理系统安装于所述在线检测系统100的一侧或安装于所述在线检测系统100内部，所述在线检测系统100用于检测掩模版的表面是否存在异物颗粒并确定所述异物颗粒的相对位置坐标，所述清理系统用于对所述掩模版的表面进行吹淋清洁处理； 所述清理系统包括风淋件210和抽气件220，所述风淋件210和所述抽气件220均安装于所述在线检测系统100的掩模版入口处，所述风淋件210的风淋口位于所述掩模版的上方且与所述掩模版的表面相对设置，所述抽气件220的吸取口221位于所述掩模版的下方且与所述风淋口相对设置，所述抽气件220用于收集所述风淋口吹扫的所述异物颗粒。
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