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采钰科技股份有限公司谢锦全获国家专利权

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龙图腾网获悉采钰科技股份有限公司申请的专利光学结构及其制造方法及包含其的光学系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113903755B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110441031.0,技术领域涉及:H10F39/18;该发明授权光学结构及其制造方法及包含其的光学系统是由谢锦全;郑岳青;何偲瑜设计研发完成,并于2021-04-23向国家知识产权局提交的专利申请。

光学结构及其制造方法及包含其的光学系统在说明书摘要公布了:本公开提供一种光学结构及其制造方法及包含其的光学系统,该光学结构包括:光学元件以及多个突出物。光学元件具有平坦化上表面。突出物设置于平坦化上表面上,其中每一突出物独立地具有次波长尺寸。本公开提供的光学结构的优点在于:通过设置具有多个突出物的超表面可避免串音干扰,提高空间解析度、整体灵敏度、噪声比、及避免混色,达到更佳的影像品质。此外,可省去发光二极管之间的隔离壁,从而减小装置的体积;由于光学多层膜未以大角度照射,也可解决蓝移问题;指纹感测器亦可产生更高对比度的高解析度影像。

本发明授权光学结构及其制造方法及包含其的光学系统在权利要求书中公布了:1.一种光学结构,包括: 一光学元件,具有一平坦化上表面;以及 多个突出物,设置于该平坦化上表面上,其中每一所述突出物独立地具有次波长尺寸,其中所述突出物具有控制入射光相位使其介于0至2π之间的尺寸分布,且所述突出物将角度介于0度至180度之间的入射光准直为角度为0度的光, 其中所述突出物包括V形天线,从上视图来看为V形,且每一所述突出物具有第一侧长、第二侧长、以及第三侧长,该第二侧长连接该第一侧长与该第三侧长,该第一侧长平行于该第三侧长,该第二侧长为该第一侧长与该第三侧长之间的最短距离,该第一侧长介于40纳米至500纳米之间,该第二侧长介于40纳米至500纳米之间,以及该第三侧长介于40纳米至500纳米之间。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人采钰科技股份有限公司,其通讯地址为:中国台湾新竹市;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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