维耶尔公司A·D·T·维尔斯马获国家专利权
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龙图腾网获悉维耶尔公司申请的专利微装置的选择性释放及转移获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113811989B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080034593.7,技术领域涉及:H10H29/03;该发明授权微装置的选择性释放及转移是由A·D·T·维尔斯马;P·P·加维尔内尼设计研发完成,并于2020-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本微装置的选择性释放及转移在说明书摘要公布了:本发明揭示一种将微装置从施体衬底选择性地转移到接收器衬底上的接触垫的方法。所述方法可包括:提供包括多个微装置的施体衬底,将所述多个微装置转移到中间衬底,接近于系统衬底将所述中间衬底上的一组选定微装置对准,在所述一组选定微装置与系统接收器之间提供光敏性层;接通所述选定微装置,从而通过所述选定微装置所发射的光来固化所述一组选定微装置与所述系统衬底之间的所述光敏性层;及将所述一组选定微装置接合到所述系统衬底上的对应接触垫。
本发明授权微装置的选择性释放及转移在权利要求书中公布了:1.一种将多个微装置集成在系统衬底上的方法,其包括: 提供包括所述多个微装置的施体衬底; 将所述多个微装置转移到中间衬底; 接近于所述系统衬底将所述中间衬底上的一组选定微装置对准; 将所述中间衬底移动到所述系统衬底,使得所述选定微装置中的每一者与所述系统衬底上的对应接触垫对齐; 在所述一组选定微装置与所述系统衬底之间提供光敏性层; 接通所述选定微装置; 通过由所述选定微装置所发射的光来固化所述一组选定微装置与所述系统衬底之间的所述光敏性层;及 将所述一组选定微装置接合到所述系统衬底上的所述对应接触垫; 其中所述提供包括所述多个微装置的施体衬底包括: 在所述施体衬底上制作所述微装置; 在所述施体衬底上所述微装置的侧壁上安装侧壁反射器,所述侧壁反射器挖入到可见光可固化环氧树脂或光致抗蚀剂中; 在所述微装置上或上方保形地沉积牺牲层;及 在所述微装置上及上方提供平面化层。
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